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期刊封面
双月刊  1972
期刊信息
主管单位: 信息产业部
主编: 桑宇清
ISSN: 1008-0147
CN: 32-1479/TN
地址: 江苏省无锡市梁溪路14号(无锡105信箱)
邮政编码: 214061
电话: 0510-85807123-2228
Email: qbzls@mail.huajing.com.cn
网址:

微电子技术

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Microelectronic Technology

本刊是国家科技部、国家新闻出版局批准的国家正式出版物,国内外公开发行。它是由信息产业部主管,中国华晶电子集团公司主办的科学技术刊物。本刊以从事半导体和做电子研究与生产的在职职员、科研学者、大中专院校师生以及电子行业的各级管理人员和计算机、通信、电子系统应用单位的技术人员为主要对象,是一种集学术性、技术性、应用性、信息性于一体的科技刊物。

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1. 音响用低压大电流器件功率容量研究原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   2001年 002期    作者:叶新民    作者单位:无锡华润华晶微电子有限公司
该文介绍了一种提高晶体管二次击穿耐量的方法,并从理论上作了探讨.
关 键 词:功率容量 二次击穿 等效镇流电阻
2. "十五"期间在国家产业政策的扶持下,发展电子封装业电子封装技术研讨会讲话(摘编) (被引次数:1) 原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   2001年 002期    作者:关白玉    作者单位:信息产业部电子信息产品管理司集成电路处
今天,各位专家、各位代表来参加电子封装技术研讨会,是对我国发展微电子封装产业的大力支持。在这次会议上专家们共同讨论国内外电子封装技术的发展,交流各自在发展生产、技术创新及机制改革中的经验与体会。介绍“
关 键 词:国家产业政策 电子封装 封装业 集成电路产业 技术创新 技术研讨 市场需求 产业发展
3. 新的NSF中心:开发具有革新意义的材料原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   2001年 002期   
美国国家科学基地(NSF)计划建立四个新的材料研制中心(MRSECS),以开发具有革新意义的材料,并且促进材料学教育和研究两者结合起来。计划在五年时间内,NSF将投资$24M,用于加利福利亚技术学院,
关 键 词:新意义 教育机会 教育和研究
4. 亚微米工艺设计规则的探讨及其意义 (被引次数:1) 原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   2001年 002期    作者:石一心    作者单位:华润微集成电路(无锡)有限公司
该文主要对亚微米工艺设计规则进行探讨,旨在促进设计公司与FAB厂家之间信息反馈,共同努力并顺利进入亚微米和深亚微米领域.
关 键 词:亚微米工艺 设计规则 成品率 光刻 刻蚀
5. 微控制器应用的红外遥控发射内置程序分析 (被引次数:3) 原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   2001年 002期    作者:沙绍栋    作者单位:华润微集成电路(无锡)有限公司
该文分析了一款由四位微控制器应用的红外遥控发射电路内置程序,重点给出了程序流程图,探讨了微控制器的应用.
关 键 词:微控制器 流程图 指令系统 发射码
6. 谈反渗透膜的污染与清洗 (被引次数:10) 原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   2001年 002期    作者:刘新庆    作者单位:无锡华润微电子有限公司
该文主要介绍了反渗透TFC卷式复合膜,在使用过程中常遇到的结垢现象,讨论了一些结垢本质及机理,并结合反渗透的情况对各种结垢可采取的一些措施、方法.
关 键 词:反渗透 垢 污染 清洗
7. NEC新开发的0.25μM ASIC原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   2001年 002期   
NEC最近开发了完全适用于片上系统(SOC:System on Chip)需求的、采用最先进的0.25μm(有效栅长为0.18μm)CMOS工艺技术制作的ASIC—CB-C10系列基本单元IC和EA-
关 键 词:ASIC 大容量存储器 片上系统 主存储 高速乘法器 共用主存 低功耗 倒装片 新开发 电源电压
8. 新世纪光刻技术及光刻设备的发展趋势 (被引次数:93) 原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   2001年 002期    作者:苏雪莲    作者单位:无锡华润微电子有限公司
该文主要阐述了光刻技术的发展极限及193NM、157NM光学光刻技术和电子束投影光刻(SCALPEL)、X-射线光刻(XRL)离子投影光刻(IPL)等技术的发展趋势.并详细介绍了国际著名品牌的光刻机以
关 键 词:光学光刻 微电子技术 专用设备 极限
9. 大规模集成电路膜厚测量仪器校准检定初步探索 (被引次数:3) 原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   2001年 002期    作者:王传庆    作者单位:无锡华润微电子有限公司
在半导体圆片制造过程中,膜厚(SIO2、SIN、多晶SI等)测量是非常重要的工艺参数.该文介绍了几种主要的膜厚测量仪器以及这些仪器的校准检测方法,并着重介绍了校准用膜厚标准的制定及应用.
关 键 词:膜厚 膜厚标准 校准 检定 测量
10. 某地空导弹武器系统中应用的集成电路(IC)原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   2001年 002期    作者:刘建都    作者单位:空军工程大学导弹学院
该文首先说明了地空导弹武器系统的主要工作原理及某地空导弹武器系统的改进研制情况,然后给出了文中所述的地空导弹武器系统中集成电路的使用情况.
关 键 词:地空导弹 制导雷达 集成电路