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期刊封面
双月刊  1972
期刊信息
主管单位: 信息产业部
主编: 桑宇清
ISSN: 1008-0147
CN: 32-1479/TN
地址: 江苏省无锡市梁溪路14号(无锡105信箱)
邮政编码: 214061
电话: 0510-85807123-2228
Email: qbzls@mail.huajing.com.cn
网址:

微电子技术

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Microelectronic Technology

本刊是国家科技部、国家新闻出版局批准的国家正式出版物,国内外公开发行。它是由信息产业部主管,中国华晶电子集团公司主办的科学技术刊物。本刊以从事半导体和做电子研究与生产的在职职员、科研学者、大中专院校师生以及电子行业的各级管理人员和计算机、通信、电子系统应用单位的技术人员为主要对象,是一种集学术性、技术性、应用性、信息性于一体的科技刊物。

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1. IC生产用铝靶的SIMS分析研究原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 001期    作者:赵梦璧    作者单位:无锡华润微电子有限公司
关 键 词:SIMS分析 杂质元素 相对灵敏度因子 二次离子 技术支援中心
2. 中国半导体工业现状及未来-来自国外的评论原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 001期    作者:李世兴    作者单位:无锡华润微电子有限公司
关 键 词:集成电路设计 半导体市场 分立器件 设计规则 半导体工业 半导体生产 工艺技术 半导体业 半导体产业 生产线
3. 低介质常数材料的开发原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 001期    作者:洪雷萍   
关 键 词:硅氧烷聚合物 介质常数
4. LPCVD多晶硅和氮化硅管的一种简单的现场清洗方法原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 001期    作者:BMUEA   
该文介绍了一种LPCVD管的NF3现场清洗方法.与传统的方法相比,现场清洗可提高设备的利用率和产量,同时降低化学材料的损耗.通过附力.泵系统对残余物进行分流消除了对LPCVD系统本身的泵站的损害,安装
关 键 词:氮化硅 现场清洗 LPCVD 多晶硅 腐蚀速率
5. 超高频晶体管多晶硅发射极新工艺原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 001期    作者:俞诚    作者单位:无锡华润微电子有限公司
关 键 词:超高频晶体管 氮化硅 多晶硅发射极工艺 发射区
6. NEC公司与中国科学院合作,拟在北京建立软件开发公司原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 001期    作者:益文   
关 键 词:NEC公司 软件开发 中国科学院
7. 双极电路质量一致性检验常见失效模式研究原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 001期    作者:崔文兵    作者单位:无锡华润微电子有限公司
关 键 词:双极电路 质量一致性 失效模式 失效机理 失效分析
8. 冲电气公司使用干腐蚀开发出0.2μM的CU布线技术原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 001期    作者:胡光   
关 键 词:冲电气 布线技术 干腐蚀
9. 日本的先进生产线原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 001期    作者:石松   
关 键 词:薄膜晶体管 LCD生产线 日本 半导体生产线 生产能力
10. 硅槽刻蚀工艺研究原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 001期    作者:李祥    作者单位:中国华晶电子集团公司中央研究所
集成电路的发展使硅槽的应用越来越广泛,如硅槽隔离和硅槽电容等等,它们将使器件的性能得到很好的改善.我们侧重研究了以Cl2和SF6为腐蚀剂的硅槽刻蚀工艺,对气体流量、射频功率和反应压力以及电极温度等工艺
关 键 词:选择比 等离子体密度 "黑硅" 反应室 硅槽刻蚀 聚合物 反应压力 工艺条件