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期刊封面
双月刊  1972
期刊信息
主管单位: 信息产业部
主编: 桑宇清
ISSN: 1008-0147
CN: 32-1479/TN
地址: 江苏省无锡市梁溪路14号(无锡105信箱)
邮政编码: 214061
电话: 0510-85807123-2228
Email: qbzls@mail.huajing.com.cn
网址:

微电子技术

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Microelectronic Technology

本刊是国家科技部、国家新闻出版局批准的国家正式出版物,国内外公开发行。它是由信息产业部主管,中国华晶电子集团公司主办的科学技术刊物。本刊以从事半导体和做电子研究与生产的在职职员、科研学者、大中专院校师生以及电子行业的各级管理人员和计算机、通信、电子系统应用单位的技术人员为主要对象,是一种集学术性、技术性、应用性、信息性于一体的科技刊物。

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1. TEOS减压CVD膜形成中的加水效果原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:反田哲史   
关 键 词:CVD膜 台阶覆盖 成膜分子 表面粘附 覆盖率 聚合物浓度 TEOS 覆盖性 添加效果 成膜速度
2. 日立与TI公司共同开发了适于批量生产的64MDRAM原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:长城   
关 键 词:批量生产 低电压 微细加工技术 功耗电流 德克萨斯仪器公司 共同开发 电源布线 低噪声设计
3. 采用O_3-TEOS-BPSG膜和三步~(RF)偏压溅射法形成的平坦化技术原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:小室雅宏   
关 键 词:偏压溅射 CVD法 平坦化技术 TEOS 等离子
4. 莫托罗拉公司开始批量生产具有高速存取时间的1M/256KSRAM原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:湖心   
关 键 词:高速存取时间 批量生产 莫托罗拉公司
5. 有机源CVD法综述-兼作本专辑前言原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:陈中佛    作者单位:无锡华润微电子有限公司
关 键 词:CVD法 有机源 CVD技术 CVD工艺 TEOS 平坦化 LPCVD 工艺方法
6. 采用有机源的金属层间膜的平坦化技术原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:金井史幸   
关 键 词:流量比 等离子氧化 有机源 CVD技术 平坦化技术 TEOS 聚合体 金属层 高分子量
7. TEOS-O_3系常压CVD技术原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:松浦正纯   
关 键 词:流量比 形成温度 形成速度 形成条件 CVD技术 TEOS 热氧化膜 等离子 底表面 形成特性
8. H_2O-TEOS等离子CVD技术原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:谷村雄二   
关 键 词:等离子体处理 等离子处理 流量比 CVD技术 脉冲激励 TEOS 聚合体 连续激励 单元工艺 腐蚀速率
9. SGS-汤姆逊公司再次供应表面组装的高速OTPROM原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:万向   
关 键 词:汤姆逊 表面组装
10. 采用常温CVD法淀积形成多层布线层间绝缘膜原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:本间哲哉   
关 键 词:CVD法 多层布线 层间绝缘 红外吸收光谱 介电常数 绝缘膜