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期刊封面
双月刊  1972
期刊信息
主管单位: 信息产业部
主编: 桑宇清
ISSN: 1008-0147
CN: 32-1479/TN
地址: 江苏省无锡市梁溪路14号(无锡105信箱)
邮政编码: 214061
电话: 0510-85807123-2228
Email: qbzls@mail.huajing.com.cn
网址:

微电子技术

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Microelectronic Technology

本刊是国家科技部、国家新闻出版局批准的国家正式出版物,国内外公开发行。它是由信息产业部主管,中国华晶电子集团公司主办的科学技术刊物。本刊以从事半导体和做电子研究与生产的在职职员、科研学者、大中专院校师生以及电子行业的各级管理人员和计算机、通信、电子系统应用单位的技术人员为主要对象,是一种集学术性、技术性、应用性、信息性于一体的科技刊物。

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1. 国内外传真机生产动向及其配套集成电路原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 001期    作者:苏雪莲    作者单位:无锡华润微电子有限公司
关 键 词:超大规模集成电路 真机 专项工程 日本
2. 等离子刻蚀工艺中UV坚膜技术研究 (被引次数:2) 原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 001期    作者:李祥    作者单位:中国华晶电子集团公司中央研究所
对正性光刻胶进行UV坚膜处理,可有效地保持图形形貌的完整性,并提高抗蚀性能,可消除等离子刻蚀中容易产生的燃胶等现象,但坚膜用起始温度、终点温度、温升速率及UV光照时间等参数对坚膜效果均会产生较大的影响
关 键 词:温升速率 等离子刻蚀 坚膜处理 光刻胶 光照时间
3. 2~3微米MOS IC离子注入工艺转换原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 001期    作者单位:无锡华润微电子有限公司
该文叙述了从西门子、东芝引进的2~3微米MOSIC生产线上,由于离子注入设备的不同,在工艺转换过程中由中方技术人员所解决的几个重要问题.1.用固体(磷、砷)源成功地替代了气体(磷烷、砷烷)源材料.并用
关 键 词:工艺转换 西门子 方块电阻 MOSIC 大束流 离子注入 注入机 生产线 注入工艺
4. 国产CF_4+O_2混合气体在SI_3N_4腐蚀中的应用原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 001期    作者:江鸿    作者单位:中国华晶电子集团公司中央研究所
关 键 词:混合气体 均匀性 腐蚀速率 SI_3N_4
5. 松下电器开发超高速、低压16M位DRAM原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 001期    作者:苏黎   
关 键 词:超高速 松下电器 高速电路 技术特点
6. 低功耗GAAS MUX/DEMUX LSI原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 001期    作者:一凡   
关 键 词:低功耗 耗散功率 GAASFET DEMUX
7. 可在+454℃高温下工作的双极集成电路原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 001期    作者:李黎   
关 键 词:集成注入逻辑电路 漏电流 载流子浓度 双极集成电路
8. 印度的半导体联合有限公司原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 001期    作者:石松   
关 键 词:GAAS集成电路 技术中心 初期生产 硅圆片 巨型计算机 半导体 年生产能力 政府所有 生产工厂 印度
9. 低弧度键合工艺的研究原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 001期    作者:王雁星    作者单位:无锡华润微电子有限公司
该文描述了集成电路制造中低弧度键合工艺的产生及特点,从金丝的认定、设备工艺的调整进行低弧度键合工艺试验.最后对低孤度键合工艺进行了总结.
关 键 词:低弧度键合
10. ULSI掩模缺陷检查技术研究原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 001期    作者:于向东    作者单位:无锡华润微电子有限公司
该文以KLA-221型自动掩模缺陷检查系统硬件资源为研究工具.详尽地描述了ULSI掩模缺陷检查的实际意义、缺陷检查的原理、检查模式.提出了如何保证缺陷检查的捕俘率以及降低伪缺陷的方法.对单层掩模版的图
关 键 词:成品率预测 掩模版 缺陷检查 伪缺陷 检查技术 掩模缺陷