微电子技术
Microelectronic Technology
本刊是国家科技部、国家新闻出版局批准的国家正式出版物，国内外公开发行。它是由信息产业部主管，中国华晶电子集团公司主办的科学技术刊物。本刊以从事半导体和做电子研究与生产的在职职员、科研学者、大中专院校师生以及电子行业的各级管理人员和计算机、通信、电子系统应用单位的技术人员为主要对象，是一种集学术性、技术性、应用性、信息性于一体的科技刊物。
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1995年
006期
作者:E.BUSSMAN
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| 要减小VLSI器件中的结漂移,需要较低的工艺温度.该文概述了高压氧化技术在MOS器件制造中的应用.该文描述了氧化的动力学.说明了高压氧化在MOS各氧化工序中的应用,包括场氧、栅氧、隔离氧化等;讨论了一 |
| 关 键 词：高压氧化 氧化层厚度 常压氧化 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1995年
006期
作者:KATHYSKIDMORE
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| 要获得10级或1级的净化间,不仅在IC的生产中要注意颗粒控制,而且在净化厂房的建造和设计过程中也要注意颗粒控制. |
| 关 键 词：净化厂房 净化间 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1995年
006期
作者:李祥
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| 关 键 词：零标记 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1995年
006期
作者:Y.H.KU
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| 文中提出了一种应用于CMOS电路的硅化物工艺.该工艺中硅化物的形成运用了离子束混合技术,掺杂硅化物结合RTA推结实现硅化物浅结.并且也研究了与该工艺相关的一些主要问题.特别是:(1)离子束混合及RTA |
| 关 键 词：方块电阻 硅化物 自对准工艺 离子束混合 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1995年
006期
作者:WIUIAMH.ARNOLD
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| 很久以来,传统的光学显微技术一直是IC测量中的重要技术,但它正在被共焦扫描显微技术、相干探测显微技术和扫描电子显微技术等精度更高的技术所取代.该文重点对用于在线线宽测量的低压扫描电子显微镜进行了讨论. |
| 关 键 词：光学显微技术 测量技术 亚微米光刻 线宽测量 测量误差 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1995年
006期
作者:彭进
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| 运转一家ASIC制造厂与运转一家标准产品生产厂相比,会遇到独特的问题降低成本和缩短生产周期是ASIC生产竞争的关键 |
| 关 键 词：ASIC 小批量生产 自动化 降低成本 生产线 掩膜版 步进光刻机 成品率 标准产品 制造商 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1995年
006期
作者:STEPHENW.WELLS
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| 学习一种实用的方法,建立并分析单片和批量工艺的控制图. |
| 关 键 词：误差的影响 非均匀性 移动极差 控制图 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1995年
006期
作者:一凡
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| 关 键 词：MPEG2标准 三菱公司 译码器电路 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1995年
006期
作者:LAURAPETERS
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| 当前,快速热处理(RTP)已成为许多先进的CMOS器件制造技术中必不可少的工艺技术. |
| 关 键 词：直接氯化 工艺技术 方块电阻 氧化层 硅化物工艺 快速热处理 硅化钛 扩散炉 热载流子 离子束混合 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1995年
006期
作者:一凡
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| 关 键 词：NEC公司 个人计算机 |
