全部字段 标题 作者 授予单位 关键词 
当前位置:首页>学术期刊>中文期刊>微电子技术
期刊封面
双月刊  1972
期刊信息
主管单位: 信息产业部
主编: 桑宇清
ISSN: 1008-0147
CN: 32-1479/TN
地址: 江苏省无锡市梁溪路14号(无锡105信箱)
邮政编码: 214061
电话: 0510-85807123-2228
Email: qbzls@mail.huajing.com.cn
网址:

微电子技术

分享到:
Microelectronic Technology

本刊是国家科技部、国家新闻出版局批准的国家正式出版物,国内外公开发行。它是由信息产业部主管,中国华晶电子集团公司主办的科学技术刊物。本刊以从事半导体和做电子研究与生产的在职职员、科研学者、大中专院校师生以及电子行业的各级管理人员和计算机、通信、电子系统应用单位的技术人员为主要对象,是一种集学术性、技术性、应用性、信息性于一体的科技刊物。

  •     目录   << 1995年 004 期 >>
11. 南朝鲜各公司急于增产16M DRAM原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 004期    作者:益民   
关 键 词:工厂建设 月产量 三星电子公司 南朝鲜 生产线
12. 氮离子注入特性研究原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 004期    作者:张义强    作者单位:无锡华润微电子有限公司
该文描述了硅中氮离子注入及其对硅热氧化生长的抑制作用.通过硅中氮离子注入,可获得高质量的薄氧化层.实验表明,只要氯离子注入条件选择合适,得到的薄氧化层的漏电和击穿都有明显改善,其氧化电荷并无较大增加.
关 键 词:注入特性 氧化层厚度 注入剂量 低能氮离子注入
13. 在任意层间可开出直径约150μM通孔的树脂多层印刷布线基板原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 004期    作者:益辛   
关 键 词:多层印刷布线
14. 微米、亚微米掩模等离子刻蚀技术初探原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 004期    作者:严剑荫    作者单位:无锡华润微电子有限公司
该文将着重阐述等离子刻蚀技术在制作超大规模集成电路中精细掩模的优越性及工艺原理.然后结合介绍等刻设备LFE501的特性和具体实验报告,分析等刻技术在进入实用阶段时的技术难点.最后简述一下等刻技术在掩模
关 键 词:射频功率 亚微米 反应气体 等离子刻蚀 刻蚀速率 离子刻蚀技术
15. 无锡华芝半导体有限公司隆重开业原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 004期    作者:虹云   
关 键 词:集成电路 半导体 国际质量标准 微电子企业 测试设备 质量保证
16. AMD公司在中国建立安装工厂原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 004期   
关 键 词:安装工 AMD公司
17. AT&T开发的0.35μM工艺器件内部多层布线技术原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1995年 004期    作者:黎星   
关 键 词:多层布线 平坦化 介质膜