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期刊封面
双月刊  1972
期刊信息
主管单位: 信息产业部
主编: 桑宇清
ISSN: 1008-0147
CN: 32-1479/TN
地址: 江苏省无锡市梁溪路14号(无锡105信箱)
邮政编码: 214061
电话: 0510-85807123-2228
Email: qbzls@mail.huajing.com.cn
网址:

微电子技术

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Microelectronic Technology

本刊是国家科技部、国家新闻出版局批准的国家正式出版物,国内外公开发行。它是由信息产业部主管,中国华晶电子集团公司主办的科学技术刊物。本刊以从事半导体和做电子研究与生产的在职职员、科研学者、大中专院校师生以及电子行业的各级管理人员和计算机、通信、电子系统应用单位的技术人员为主要对象,是一种集学术性、技术性、应用性、信息性于一体的科技刊物。

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11. TEOS-O_3常压CVD膜形成中的醇类添加效果原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:池田浩一   
关 键 词:CVD膜 TEOS 氧供给量 极大点 沉积速度
12. TEOS-O_3常压CVD膜形成中的GEO_2添加效果原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:前田和夫   
关 键 词:CVD膜 流动温度 常压 CVD技术 TEOS 平坦化 GEO_2 流动特性 VLSI器件 绝缘膜
13. 杜邦公司与中国广东省设立合作公司从95年后半年开始生产厚膜胶原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:益群   
关 键 词:中国广东 开始生产 杜邦公司 厚膜
14. 日本NEC公司与中国合资的组装工厂已开始启动,4M月产量为50万块,一年后达到连续化生产原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:松川   
关 键 词:连续化 月产量 占地面积 NEC公司 日本 首都钢铁公司
15. TEOS等离子CVD膜形成中加氟气体的效果原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:水野晋介   
关 键 词:CVD膜 叠层结构 TEOS 等离子 流量比 腐蚀速率
16. ADI/IBM二公司相互合作共同进行使用SIGE工艺的无线通信LSI的制造和销售工作原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:松川   
关 键 词:相互合作 SIGE工艺 无线通信
17. TEOS-O_3常压CVD膜形成技术 (被引次数:1) 原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:吉村正树   
关 键 词:CVD法 CVD膜 流量比 成膜温度 常压 耐热性 TEOS 热处理 法制 耐湿性
18. H_2O-TEOS等离子CVD膜形成中添加NH_3的效果原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1994年 004期    作者:佐藤淳一   
关 键 词:CVD法 CVD膜 成膜机理 环氧基 碱性催化剂 热收缩率 TEOS 等离子 红外吸收光谱 有机成分