微电子技术
Microelectronic Technology
本刊是国家科技部、国家新闻出版局批准的国家正式出版物，国内外公开发行。它是由信息产业部主管，中国华晶电子集团公司主办的科学技术刊物。本刊以从事半导体和做电子研究与生产的在职职员、科研学者、大中专院校师生以及电子行业的各级管理人员和计算机、通信、电子系统应用单位的技术人员为主要对象，是一种集学术性、技术性、应用性、信息性于一体的科技刊物。
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1999年
004期
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| 关 键 词：CMOS技术 高端微处理器 COSI |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1999年
004期
作者:石林初
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
| 集成电路工艺监测版PCM(ProcessingControol,Monitor)在双极IC中应用广泛.它至少应该有四种基本的功能:测量元器件的特性,监控制造工艺能力,发现寄生效应以及工艺中的随机缺陷. |
| 关 键 词：工艺监测版 元器件特性 制造工艺能力 随机缺陷 寄生效应 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1999年
004期
作者:刘文俊
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| 关 键 词：台湾 科技工业园 中国大陆 半导体制造 涡轮喷气发动机 哲学博士 半导体生产 半导体业 科技园 委托加工 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1999年
004期
作者:荣莹
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| 关 键 词：大批量生产 高速集成电路 科罗拉多 技术开发 知识产 GAAS技术 制造工厂 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1999年
004期
作者:荣莹
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| 关 键 词：研究规划 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1999年
004期
作者:彭力
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
| 该文扼要介绍了电子束直写圆片的原理,地形标记的识别,以及电子束曝光系统能识别的圆片标记的制造技术. |
| 关 键 词：电子束曝光 直写圆片 地形标记 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1999年
004期
作者:赵丽新
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
| 该文主要描述了用电子束工艺反转技术制造1:1精密掩模的新方法,给出了从基本原理入手来确定工艺流程和选定工艺条件的过程,并给出制作实例说明了该项技术所取得的经济效益和社会效益. |
| 关 键 词：工艺反转技术 精密掩模 正胶工艺 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1999年
004期
作者:谢常青
作者单位:中国科学院微电子研究所 |
| 目前看来,193nm光学光刻很有希望应用到0.13μm集成电路工业生产中去.该文从光源、照明系统、掩模、光刻胶、光刻机等方面对193nm光学光刻技术进行了分析,并介绍了它目前的一些进展情况,最后对它的 |
| 关 键 词：193NM光源 照明系统 掩模 光刻胶 光刻机 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1999年
004期
作者:葛珏
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
| 基于对若干电路内E2PROM模块的分析研究,作者介绍了SOC中嵌入E2PROM模块的设计方法.同时,文章中亦阐述了E2PROM基本单元的工作原理以及E2PROM模块的I/O特性. |
| 关 键 词：E~2PROM 嵌入设计 SOC IP模块 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1999年
004期
作者:居水荣
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
| 该文讨论了我们自行开发的以VHDL作为硬件描述语言的基于0.gμmCMOS标准单元正向设计流程,并介绍了利用该流程设计的汉化传真机用LCD显示芯片的设计. |
| 关 键 词：VHDL 标准单元 设计流程 LCD |
