微电子技术
Microelectronic Technology
本刊是国家科技部、国家新闻出版局批准的国家正式出版物，国内外公开发行。它是由信息产业部主管，中国华晶电子集团公司主办的科学技术刊物。本刊以从事半导体和做电子研究与生产的在职职员、科研学者、大中专院校师生以及电子行业的各级管理人员和计算机、通信、电子系统应用单位的技术人员为主要对象，是一种集学术性、技术性、应用性、信息性于一体的科技刊物。
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1997年
002期
作者:于宗光
作者单位:中国华晶电子集团公司中央研究所 |
| E2PROM在反复擦/写过程中会产生陷时电行,对耐久性产生不良的影响.该文详细研究了氧化层中陷除电荷的数量位置,对氧化层注入电场的影响,为系统研究E2PROM的耐久性提供了理论依据. |
| 关 键 词：陷阱 氧化层 电场 E~2PROM |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1997年
002期
作者:苏雪莲
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
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| 关 键 词：IC卡 国内外发展 智能卡 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1997年
002期
作者:范建超
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
| 该文叙述了多晶硅薄膜的制备以及作为集成电路中的负载电阻的基本原理.重点阐述在高频、低功耗、高速双极模拟超大规模集成电路制造过程中多晶硅电阻工艺技术的两究、开发与应用,并列出了经优化的工艺条件及相关的试 |
| 关 键 词：工艺技术 方块电阻 掺杂浓度 注入剂量 双极集成电路 硅薄膜 电阻率 多晶硅 硅电阻 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1997年
002期
作者:肖建农
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
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| 关 键 词：质量控制 生长速率 硅外延片 电阻率 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1997年
002期
作者:寒梅
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| 关 键 词：DC/DC转换器 平面支撑 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1997年
002期
作者:邓君龙
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
| 该文主要阐述研制微米/亚微米测试校正版的意义,在研制过程中解决电子束邻近效应、拼接校正、等离子刻蚀、测试技术等几个关键技术问题.完成了多功能、大范围、高精度、边缘较好的微米/亚微米测试校正版.通过测试 |
| 关 键 词：测试仪器 CD尺寸 亚微米级 测试校正 电子束曝光机 技术支援中心 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1997年
002期
作者:童志义
作者单位:电子工业部第四十五研究所 |
| 该文主要过评了光学光刻技术在由0.35μmat艺向0.25μm工艺阶段转移的技术革命中所面临的挑战,以及远紫外光刻所处的地位,现状及今后的发展趋势. |
| 关 键 词：光学光刻 远紫外曝光 STEPPER 0.25μM工艺 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1997年
002期
作者:于兆卓
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
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| 关 键 词：电极损耗 粗糙度 技术参数 电极材料 封闭型腔 击穿电压 加工稳定性 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1997年
002期
作者:石林初
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
| 该文以DAISY软件为例,验证了双极模拟IC使用版图设计规则检查ORC(DesignRulesCheck)的方法,包括建立标准格式文件DRC;拷贝并修改成适合特定品种的文件;将源程序编译成目标程序;执 |
| 关 键 词：隔离岛 具体意义 出错信息 经济效益 目标程序 模拟IC 标准格式文件 隔离墙 设计规则 |
| [中文期刊]
刊名:《微电子技术》
1997年
002期
作者:石林初
作者单位:无锡华润微电子有限公司 |
| 该文在CD7358GS关键图形设计实践的基础上,总结了旨在监测元器件特性和监控工艺能力的关键图形的设计方法,从而为分析工艺缺陷、设计容限、工艺稳定性等找到了切实有效的方法,并为进而提高成品率提供了有力 |
| 关 键 词：版图设计 比较法 注入电阻 关键图 监控工艺 元器件特性 |
