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期刊封面
双月刊  1972
期刊信息
主管单位: 信息产业部
主编: 桑宇清
ISSN: 1008-0147
CN: 32-1479/TN
地址: 江苏省无锡市梁溪路14号(无锡105信箱)
邮政编码: 214061
电话: 0510-85807123-2228
Email: qbzls@mail.huajing.com.cn
网址:

微电子技术

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Microelectronic Technology

本刊是国家科技部、国家新闻出版局批准的国家正式出版物,国内外公开发行。它是由信息产业部主管,中国华晶电子集团公司主办的科学技术刊物。本刊以从事半导体和做电子研究与生产的在职职员、科研学者、大中专院校师生以及电子行业的各级管理人员和计算机、通信、电子系统应用单位的技术人员为主要对象,是一种集学术性、技术性、应用性、信息性于一体的科技刊物。

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1. 腐蚀工艺中的颗粒问题原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 004期    作者:吴长明    作者单位:中国华晶电子集团公司中央研究所
该文从氢氟酸腐蚀二氧化硅、湿法去胶、有机溶剂去胶、等离子反应室沾污等方面入手,探讨如何控制腐蚀工艺过程中的颗粒问题,以最优化的工艺条件减少或消除工艺中的颗粒和滞留在硅片表面的残余物,从而达到对于1μm
关 键 词:有机溶剂 反应室 颗粒测试 颗粒控制 腐蚀工艺 氧化硅 优化工艺条件 工艺流程
2. 超高密度光存储器用的新材料原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 004期    作者:一凡   
关 键 词:光存储器 超高密度 烧孔效应
3. 21世纪初的IC形势-未来FAB及其投资、效益分析原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 004期    作者:蔡菊荣    作者单位:无锡华润微电子有限公司
该文介绍了微环境的研究概况.对微环境新FAB的投资及成本-效益进行了分析.例举了新FAB的结构设计方案.在全球新FAB投资方面.重点介绍了欧洲及日本对新FAB投资发展的动向.
关 键 词:微环境 成本-效益 未来FAB 投资分析
4. 20NM栅氧化层的制备及其特性研究原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 004期    作者:倪立华    作者单位:中国华晶电子集团公司中央研究所
关 键 词:氧化物电荷 氧化气氛 栅氧化层 清洗方法 电流密度 退火温度 氧化速率 氧化温度
5. 冲电气公司开发1GB DRAM用的新SOG材料原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 004期    作者:一凡   
关 键 词:冲电气 制造工艺 金属膜 电子线 工艺流程 远紫外线
6. 三菱电机公司强化国外生产16MB DRAM原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 004期    作者:一凡   
关 键 词:三菱电机公司 国外生产 新生产线
7. φ125MM圆片1μM PCM参数测试技术原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 004期    作者:黄卫    作者单位:中国华晶电子集团公司中央研究所
关 键 词:电容测试结构 参数测试 双层多晶 漏电流 接触电阻
8. 国产IC引线框材料的应用研究原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 004期    作者:陈奉明    作者单位:无锡华润微电子有限公司
关 键 词:引线框材料 集成电路引线框
9. LB膜抗蚀层在光刻中的应用原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 004期    作者:顾宁    作者单位:生物电子学国家重点实验室
该文概述了LB超薄抗蚀层用于光刻研究的历史及现状,指出:发展实用化的LB超薄抗蚀层技术对于微电子工业中深亚微米乃至纳米水平的微细加工具有重要的意义.
关 键 词:LANGMUIR-BLODGETT(LB)膜 超薄抗蚀层 光刻
10. INTEL投资强劲原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 004期    作者:春晓   
关 键 词:INTEL FLASH存贮器 处理器