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期刊封面
双月刊  1972
期刊信息
主管单位: 信息产业部
主编: 桑宇清
ISSN: 1008-0147
CN: 32-1479/TN
地址: 江苏省无锡市梁溪路14号(无锡105信箱)
邮政编码: 214061
电话: 0510-85807123-2228
Email: qbzls@mail.huajing.com.cn
网址:

微电子技术

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Microelectronic Technology

本刊是国家科技部、国家新闻出版局批准的国家正式出版物,国内外公开发行。它是由信息产业部主管,中国华晶电子集团公司主办的科学技术刊物。本刊以从事半导体和做电子研究与生产的在职职员、科研学者、大中专院校师生以及电子行业的各级管理人员和计算机、通信、电子系统应用单位的技术人员为主要对象,是一种集学术性、技术性、应用性、信息性于一体的科技刊物。

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1. TO-3P(H)(IS)全绝缘封装工艺研究原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 001期    作者:李兵    作者单位:无锡华润微电子有限公司
关 键 词:全绝缘 树脂流体 封装工艺 散热片 注射速度 边界层 凝胶化时间 注入速度 成品率
2. 封装技术部分新词汇(英汉对照)原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 001期    作者:李宗亚   
关 键 词:栅格阵列 英汉对照 封装技术 双列直插式 芯片粘接 扁平管壳 多芯片组件 新词汇
3. 3μMSI栅CMOS产品PCM测试方法分析及测试程序开发原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 001期    作者:桑莉莎    作者单位:无锡华润微电子有限公司
该文介绍了一种分布在划片槽内的PCM结构的测试方法.使用美国Keithley公司的S425参数测试系统,以3μmSi栅CMOS产品为研究对象,建立了一套全新的PCM测试方法并开发成功了完整的测试程序.
关 键 词:测试方法 方块电阻 测试程序 开启电压 测试子程序 CMOS 测试模型
4. 干法刻蚀铝合金引线产生的后腐蚀及其对策原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 001期    作者:李祥    作者单位:无锡华润微电子有限公司
Al及其合金的腐蚀是半导体生产和制造的关键工艺之一.干法刻蚀带来的不良因素就是容易产生后腐蚀.该文对后腐蚀的形成机理及防治进行了探讨.形成的根本原因在于氯基.要防治其形成,除应选择合适的刻蚀条件外,还
关 键 词:铝合金 腐蚀现象 干法刻蚀 后腐蚀
5. 化合物材料市场开始复苏,GAP系列材料看好,INP系列材料低落原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 001期    作者:松源   
关 键 词:高速集成电路 材料需要量 材料市场 有关化合物 化合物半导体材料 携带式电话机
6. 射频功率管标准单元设计与应用研究原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 001期    作者:杜行尧    作者单位:无锡华润微电子有限公司
该文首次提出了硅双极射频功率晶体管采用标准单元的设计思想,并通过对400MHz系列产品的标准单元设计与应用研究,表明了设计思路是正确可行的,它对产品性能优化和开展系列化产品设计以及促进标准化、现代化管
关 键 词:射频功率 标准单元 设计与应用
7. 索尼公司开发成功用于0.18μM工艺的光刻技术原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 001期    作者:赵一尘   
关 键 词:相移掩模 光刻技术 0.18μM 开发成功 索尼公司
8. 微环境技术述评 (被引次数:1) 原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 001期    作者:林耀泽    作者单位:中国华晶电子集团公司中央研究所
关 键 词:工艺环境 工艺设备 微环境 洁净度
9. 飞速发展中的64MBDRAM技术原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 001期    作者:洪雷萍   
关 键 词:高档计算机 工艺技术 栅氧化层 容易的工作 半导体制造商 制作技术 德克萨斯仪器公司 金属化布线 发展中 国际固体电路会议
10. 日本富士通公司预测日本个人计算机销售量1995年达100万台 (被引次数:1) 原文获取 
[中文期刊]   刊名:《微电子技术》   1996年 001期    作者:一凡   
关 键 词:1995年 富士通 个人计算机 销售量 日本